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quantum efficiency的基本工作原理解析

更新時(shí)間:2022-07-26      點(diǎn)擊次數(shù):1959
  quantum efficiency系統(tǒng)可以測試各種光電器件,包括p-n節(jié)和染料敏化太陽能電池(DSSCs)。系統(tǒng)中包括光源,單色儀,濾光片,和光學(xué)模塊,用以在光電器件上形成輻射,同時(shí)一個(gè)偏置光也會(huì)被加在器件上,用來模擬使用條件。計(jì)算機(jī)連接單色儀,數(shù)據(jù)采集設(shè)備,完成信號(hào)轉(zhuǎn)換,校準(zhǔn),保存測試數(shù)據(jù),并生成報(bào)告。不同的系統(tǒng)包含不同的配置,并且有不各種不同的選項(xiàng)配置。
 
  1.預(yù)選的太陽能電池(光電材料)IPCE/QE/量子效率/光譜響應(yīng)測試標(biāo)準(zhǔn)配置;
 
  2.簡單靈活的太陽能電池(光電材料)IPCE/QE/量子效率/光譜響應(yīng)測試軟件;
 
  3.各種光源作為選項(xiàng)以滿足不同的測試要求;
 
  4.Stanford光學(xué)斬波器和鎖相放大器保證高信噪比;
 
  5.校準(zhǔn)過的標(biāo)準(zhǔn)探測器;
 
  6.太陽能電池(光電材料)IPCE/QE/量子效率/光譜響應(yīng)測試夾具。
 
  quantum efficiency在制程改善上的應(yīng)用:
 
  ①當(dāng)太陽光照射到太陽能電池時(shí),光通過的順序?yàn)榭狗瓷鋵印層、PN結(jié)面、P層、背電極。抗反射層因能隙較大,僅會(huì)吸收短波長的光,因此短波段(300nm-350nm)通常反應(yīng)抗反射層的特性。
 
 ?、诖笥?50nm的光陸續(xù)穿過N層、PN結(jié)面與P層,因各層厚度的不同,所吸收的波段范圍依序?yàn)?50nm-500nm波段(N層),500nm-800nm波段(PN結(jié)面),800nm-1100nm(P層),在350-500nm波段,光譜曲線是隨著波長的增加而提升,因長波長光子穿透深度較深,接近PN結(jié)面,因此轉(zhuǎn)換效率提升。
 
 ?、垡话阈什糠侄际锹湓赑N結(jié)面的波段,因PN結(jié)面內(nèi)部電場可有效率的拆解吸收光子后的電子-空穴對(duì),效率500nm-800nm波段,反映的是PN結(jié)面層的特性。
 
  ④800-1100nm波段穿透到下層的P層,光譜隨波長增加而快速遞減的原因有二種,800-1000nm波長越長,產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)越遠(yuǎn)離PN結(jié)面,需由擴(kuò)散機(jī)制到達(dá)PN結(jié)面,距離PN結(jié)面越遠(yuǎn),再擴(kuò)散到PN結(jié)面前就被復(fù)合的機(jī)率較高,所以800nm-1000nm光譜隨波長遞減。
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